Imah > daptar acara
Deposisi Uap Kimia, atanapi CVD kanggo pondok, mangrupikeun cara anu saé pikeun nempatkeun lapisan ipis dina permukaan padet nganggo Semixlab. parabot cvd. Kusabab ngagunakeun gas pikeun lem hiji jaket ipis barang onto barang séjén. Téknologi anu sami dianggo dina seueur hal anu keren, kalebet chip komputer, panél surya sareng perhiasan anu mewah.
Aya ogé sababaraha jinis mesin CVD gumantung kana naon anu anjeun badé ngawangun. Conto spésifikna kalebet CVD tekanan atmosfir, CVD tekanan rendah, sareng CVD plasma. Masing-masing gaduh tujuan sorangan, sapertos alat palapis atanapi ngadamel bahan anu kuat pikeun gedong.
Aya seueur kauntungan tina operasi Semixlab mesin mocvd alat-alat. Salah sahiji kauntungan anu ageung nyaéta aranjeunna tiasa ngadamel lapisan ultrathin, sareng éta penting pisan pikeun ngadamel chip komputer. Éta ogé tiasa nyiptakeun lapisan anu kuat, tahan panas, tahan kimia. Sareng mesin CVD gancang sareng hiji waktos aranjeunna tiasa ngadamel seueur barang.
Mesin CVD panganyarna anu macet dipak ku barang tiis. Sababaraha komponén konci nyaéta inlet gas, kamar réaksi, sareng mékanisme pemanasan. Inlet gas ngenalkeun gas pikeun nempel kana permukaan padet sareng disimpen salaku pilem ipis. The chamber réaksi nyaéta aksi, sarta panas meunang aksi bade gancang sarta ogé.
Sareng nalika téknologi janten langkung saé, Semixlab cvd tungku mesin anu ngaronjatkeun, ogé. Kamajuan panganyarna boga tujuan pikeun ngaganti gas dina chamber kalawan tipena béda jeung struktur maranéhna pikeun déposisi pilem ipis. Janten mesin CVD sorangan ogé dioptimalkeun janten langkung gancang sareng langkung éfisién, pikeun ngaktifkeun rupa-rupa hal anu tiasa dilakukeun pikeun dilegakeun ka hareup. Ayeuna para ilmuwan nyobian ngadamel mesin, anu katelah CVD atanapi mesin déposisi uap kimia, langkung alit sareng langkung gampang diangkut supados tiasa dianggo dina sababaraha lokasi énggal.
EN 
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ
