Ring Pokus SiC padet pikeun Etching

The Solid SiC Focus Ring pikeun Etching ti Semixlab ngagabungkeun bahan canggih, rékayasa precision, sarta kinerja prosés kabuktian. Dirancang pikeun résistansi plasma anu luhur sareng kontaminasi minimal, éta ngajamin uniformity punjul, umur jasa anu langkung panjang, sareng operasi alat anu stabil dina nungtut lingkungan etching.

Komposisi Bahan sareng Sipat Key

Cincin Fokus SiC Solid Semixlab didamel tina SiC anu disinter dénsitas tinggi kalayan kamurnian luar biasa sareng mikrostruktur anu dikontrol.

Sifat fisik inti ngawengku:

Sipat ieu mastikeun kinerja stabil sarta bisa diulang dina kaayaan etching nuntut.

Aplikasi dina Prosés Etching Semikonduktor

1. High-Density Plasma Etching (ICP / RIE)

Cincin fokus SiC nyaimbangkeun dénsitas plasma sareng distribusi médan listrik caket tepi wafer, sacara efektif ngaminimalkeun etching tepi sareng ningkatkeun keseragaman dimensi kritis (CD). Résistansi erosi anu kuat manjangkeun umur jasa sanajan dina paparan énergi ion anu luhur.

2. Deep Reactive Ion Etching (DRIE)

Salila prosés DRIE-umum di MEMS jeung manufaktur alat kakuatan-Cingcin Pokus SiC padet tahan bombardment ion terus-terusan sarta déposisi polimér tanpa deformasi. Generasi partikel anu rendah nyumbang kana ngahasilkeun anu langkung luhur sareng ngirangan siklus pangropéa.

3. Fluorine- sarta Klorin-Dumasar Etch Lingkungan

Inertness kimiawi SiC nyegah réaksi jeung gas plasma dumasar halogén (SF₆, CF₄, Cl₂, BCl₃), nyadiakeun stabilitas diménsi jangka panjang sarta ngajaga chamber tina kontaminasi atawa difusi logam.

4. High-Power sarta Long-Durasi Etching

Kalawan sipat manajemén termal alus teuing, SiC éfisién dissipates panas tina etching tinggi-énergi berkepanjangan, ngajaga integritas mékanis jeung akurasi dimensi sanajan dina Ngabuburit suhu parna.

Keunggulan Téknis Semixlab

1. Téknik Bahan canggih

Semixlab ngungkit sintering presisi sareng téknologi bubuk SiC kemurnian tinggi, ngahontal kapadetan bahan anu luar biasa sareng kasaragaman mikrostruktur. Masing-masing komponén ngalaman mesin CNC sareng ngagosok permukaan eunteung, mastikeun géométri anu tepat sareng ngirangan gangguan plasma.

2. Kamampuhan kustomisasi pinuh

Urang nawiskeun cingcin fokus custom-dirancang tailored pikeun nyocogkeun rupa platform OEM etching (LAM, TEL, AMAT, Oxford, jsb). Géométri, konduktivitas, sareng ketebalan tiasa dioptimalkeun dumasar kana lingkungan plasma anjeun sareng ukuran wafer (200 mm / 300 mm / 450 mm).

3. Tes Kualitas Rigorous

Sadaya bagian SiC diuji dina standar dimensi, termal, sareng tahan plasma anu ketat, kalebet:

● Density sarta verifikasi porosity

● simulasi erosi plasma jeung nguji maké gancangan

● Inspeksi kasar permukaan (Ra ≤ 0.05 μm)

● setrés termal jeung sertifikasi flatness

Semixlab nyaéta produsén ngarah komponén silikon carbide (SiC) purity tinggi di Cina, specializing di precision-direkayasa Solid SiC Focus Rings pikeun sistem etching plasma canggih. Direkayasa pikeun résistansi plasma luar biasa, stabilitas termal, sarta precision diménsi, unggal ring fokus ensures distribusi plasma seragam jeung kontrol profil etch punjul.

Pikeun desain custom, konsultasi teknis, atawa evaluasi sampel, mangga ngahubungan spesialis bahan semikonduktor kami.