8 inci TaC coated Air ngambang Baki pikeun SiC Epitaxy

8 inci TaC Coated Air Float Tray mangrupikeun komponén kritis dina prosés epitaksi SiC multi-wafer, dirancang pikeun ngadukung sareng ngangkut wafer karbida silikon salami kamekaran epitaxial. Dina lingkungan anu nungtut tina tungku epitaxy SiC, baki kedah tahan suhu luhur ekstrim, gas korosif, sareng siklus pangolahan anu panjang. Ku ngagabungkeun palapis CVD TaC jeung substrat grafit-purity tinggi, baki ngambang hawa ieu ensures durability unggul, stabilitas termal, jeung prosés uniformity-nyieun hiji fixture penting dina volume tinggi SiC wafer manufaktur.

Ⅰ. Komposisi Bahan sareng Sipat Fisik

The TaC Coated Air Float Tray ngahijikeun bahan-bahan canggih pikeun ngahontal kakuatan mékanis sareng résistansi kimia anu diperyogikeun dina epitaksi semikonduktor:

●Bahan substrat: Susceptor grafit kemurnian tinggi (eusi najis ultra-rendah, konduktivitas termal tinggi)

●Lapisan Protection Surface: Lapisan CVD TaC (Tantalum Carbide) diterapkeun ngaliwatan déposisi uap kimia pikeun ngagem ekstrim sareng résistansi korosi

Sipat fisik konci:

TaC Coating Purity: ≥ 99.99%

Teu karasa (HK): ~2000 HK

Titik Lebur: ~3,880 °C

Konduktivitas termal: Alus, mastikeun pemanasan wafer seragam

Résistansi kana Korosi Halogén: Stabilitas luar biasa dina lingkungan epitaxial anu beunghar klorin sareng fluorin.

Kapadetan Grafit Dasar: ~1.85–1.95 g/cm³

Suhu Gawé: Nepi ka 2,000 ° C dina lingkungan anu dikontrol

Sipat ieu mastikeun baki TaC Coated 8 inci tiasa tahan epitaxial anu panjang bari ngaminimalkeun generasi partikel sareng kontaminasi wafer.

Ⅱ. Fungsi konci dina SiC Epitaxy

Baki Coated TaC 8 inci kami maénkeun peran anu penting dina prosés epitaksi semikonduktor SiC ku ngalaksanakeun sababaraha fungsi kritis:

● Distribusi Suhu Seragam: Konduktivitas termal anu luhur tina substrat grafit sareng lapisan TaC ngajamin transfer panas anu saé sareng suhu seragam dina sadaya wafer SiC. Kasaragaman ieu penting pisan pikeun ngahontal ketebalan lapisan epitaxial sareng morfologi anu konsisten.

●Panyalindungan Ngalawan Etching sareng Kontaminasi: Lapisan TaC inert sacara kimiawi sacara efektif nyegah substrat grafit ngaréaksikeun sareng gas prékursor, anu tiasa nyababkeun etching sareng ngahasilkeun kontaminasi partikulat. Perlindungan ieu mangrupikeun konci pikeun ngajaga lingkungan prosés anu bersih sareng mastikeun ngahasilkeun wafer anu luhur.

● Umur Panjang: Lapisan TaC anu awét sacara signifikan manjangkeun umur susceptor ku cara ngajagi grafit tina ngagem sareng degradasi kimiawi, ngirangan frékuénsi ngagantian sareng nurunkeun biaya operasional.

● Desain Ngambang Udara: Desain ngambang hawa unik ngaminimalkeun kontak fisik antara susceptor jeung chamber, ngurangan gesekan jeung nyegah generasi partikel poténsi nu bisa ngotorkeun wafers. Desain ieu naha éta ogé katelah TaC Coated Air Float Tray.

Keunggulan Semixlab

Di Semixlab, kami ngalangkungan produk standar pikeun nyayogikeun solusi anu cocog sareng kabutuhan khusus pikeun prosés epitaksi anjeun.

● Kustomisasi: Kami nawiskeun pilihan kustomisasi komprehensif, kalebet bentuk, ukuran, sareng ketebalan lapisan anu béda, pikeun cocog sareng spésifikasi reaktor sareng syarat prosés anjeun.

● Konsultasi Téknis Ahli: Tim insinyur anu berpengalaman kami nyayogikeun dukungan téknis sareng konsultasi anu jero, ngabantosan anjeun ngaoptimalkeun prosés anjeun sareng ngahijikeun produk kami sacara lancar.

● Tes Pra-pangiriman anu ketat: Unggal piring TaC Coated ngalaman uji kaayaan ekstrim sateuacan dikirim. Kami pariksa kinerja sareng integritasna dina suhu anu luhur sareng di lingkungan agrésif kimiawi pikeun mastikeun yén éta bakal nyumponan kabutuhan operasional anjeun anu nungtut.